文献类型：专利

中文题名：一种轴向位移光学测量设备

作者：刘伟

第一作者：刘伟

机构：[1]贵州理工学院;

第一机构：贵州理工学院

专利类型：实用新型

申请号：CN201922341630.6

申请日：20191223

申请人地址：550003 贵州省贵阳市云岩区蔡关路1号贵州理工学院

公开日：20200929

代理人：韩炜

代理机构：11362 北京联创佳为专利事务所(普通合伙)

语种：中文

中文关键词：本实用新型; 测量; 反射板; 上圆弧; 压力柱; 样品台; 光学测量设备; 上激光发射器; 设备使用寿命; 数据测量; 形变位移; 中部区域; 轴向位移; 测量室; 观察区; 室内壁; 室外部; 感光; 同轴; 室内; 侧面; 维护

年份：2020

摘要：本实用新型公开了一种轴向位移光学测量设备,包括有测量室,测量室外部的中部区域为感光观察区,测量室内的底部设有样品台,顶部设有与样品台同轴的压力柱;所述压力柱底端的侧面设有上圆弧形反射板,测量室内壁水平对应上圆弧形反射板的区域内设有上激光发射器。本实用新型具有形变位移数据测量精度高,操作简单,设备使用寿命长,维护成本低的特点。