文献类型：专利

中文题名：管式PECVD增强气相沉积微晶硅的制备方法

作者：韦德举 唐安江 王伟 唐石云 郭俊江 陈丽军 李忠 张妙鹤 蒋东海 李雪梅

第一作者：韦德举

机构：[1]贵州理工学院;

第一机构：贵州理工学院

专利类型：发明专利

申请号：CN202210094985.3

申请日：20220126

申请人地址：550003 贵州省贵阳市云岩区蔡家关路1号

公开日：20220816

代理人：邓爱军

代理机构：深圳泛航知识产权代理事务所(普通合伙)

语种：中文

中文关键词：气相沉积;四氟化硅;微晶硅;磷矿;脱氧;伴生;加热炉;高真空石英管;四氟化硅气体;等离子功率;混合气体;碱液吸收;氢气;保护气;氟化氢;种管;制备;洗涤;氧气

年份：2022

摘要：本发明公开了一种管式PECVD增强气相沉积制备微晶硅的工艺，将四氟化硅、氢气、保护气，通过脱氧管，除去其中的氧气。脱氧后的混合气体通入高真空石英管，在等离子功率50?400W，加热炉温度100?600度下，气相沉积得到微晶硅，产生的氟化氢、剩余四氟化硅气体通过碱液吸收洗涤。本发明利用磷矿伴生资源四氟化硅为原料，将大大提升磷矿伴生资源的有效利用，减少资源浪费。