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SiF_4气体中(SiF_3)_2O的净化方法     被引量:1

Method of(SiF_3)_2O Purification from SiF_4 Gas

文献类型:期刊文献

中文题名:SiF_4气体中(SiF_3)_2O的净化方法

英文题名:Method of(SiF_3)_2O Purification from SiF_4 Gas

作者:韦德举 唐安江 张妙鹤 马翠翠

第一作者:韦德举

机构:[1]贵州理工学院;[2]贵州同净环保科技有限公司

第一机构:贵州理工学院

年份:2014

卷号:42

期号:15

起止页码:11-12

中文期刊名:广州化工

外文期刊名:Guangzhou Chemical Industry

基金:贵州理工学院科学基金项目(NO:xjzk20130814)

语种:中文

中文关键词:四氟化硅;六氟二甲硅醚;纯化

外文关键词:silicon tetrafluoride;hexafluorodlslloxane;purification

摘要:高纯度四氟化硅(SiF4)是电子工业中的一种重要原料,能用于光导纤维、太阳能电池和水泥硬化剂等的原料。详细介绍了SiF4气体中(SiF3)2O的生成原理和(SiF3)2O的净化方法,六氟二甲硅醚的纯化方法有活性炭吸附法,与含氟化氢的浓硫酸,氟气,氟化剂等物质发生反应,其中详细介绍了活性炭对四氟化硅气体中的杂质的净化效果。
Silicon tetrafluoride is an important raw material in electronic industry .It can also be used as raw material of optical fiber.solar cell and cement hardener.The generation principle of ( SiF3 ) 2 O from SiF4 gas are detailed described.The purification method of ( SiF3 ) 2 O mainly have activated carbon adsorption method.And with concentrated sulfuric acid containing hydrogen fluoride , fluorine gas and fluorinating agent reaction , The details of the purification effect of activated carbon on the four silicon fluoride impurities in gas.

参考文献:

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