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详细信息

磁场下粉末扩散法制备高硅硅钢薄带的方法及装置    

文献类型:专利

中文题名:磁场下粉末扩散法制备高硅硅钢薄带的方法及装置

作者:龙琼 杨婷 彭南丹 孙启辉 余正平 曾英 路坊海 罗勋

第一作者:龙琼

机构:[1]贵州理工学院;

第一机构:贵州理工学院

专利类型:发明专利

申请号:CN201710582103.7

申请日:20170717

申请人地址:550003 贵州省贵阳市蔡家关

公开日:20230509

代理人:刘楠

代理机构:贵阳中新专利商标事务所

语种:中文

中文关键词:薄带;高硅硅钢;低硅钢;制备;表面强化处理;热处理;磁场环境;粉末轧制;铁硅合金;磁性能;近终型;取向;磁场;填充;成型;加工;扩散

年份:2023

摘要:本发明公开了一种磁场下粉末扩散法制备高硅硅钢薄带的方法及装置,该方法采用在待加工的低硅钢带上布置孔,然后对待加工低硅钢带进行表面强化处理,往孔内填充铁硅合金粉并对粉末轧制成型,然后在磁场环境下对其进行热处理,得到具有一定取向的硅含量为6.5wt%Si的磁性能优异的高硅硅钢薄带,本发明可以实现长尺寸、连续操作,且可以制备出近终型的薄带,因而可以显著降低制备成本。

参考文献:

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