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防止IC盗版的技术发展状况研究    

文献类型:期刊文献

中文题名:防止IC盗版的技术发展状况研究

作者:杨燕

第一作者:杨燕

机构:[1]贵州理工学院工程训练中心,贵州贵阳550003

第一机构:贵州理工学院工程训练中心

年份:2021

期号:3

起止页码:42-45

中文期刊名:贵州农机化

语种:中文

中文关键词:商业模式;过量生产;芯片盗版;IC计量

摘要:随着工业水平的发展,半导体行业从垂直商业模式转变成了水平商业模式,使芯片设计和制造分离,导致了芯片被过量生产等一系列问题。介绍了研究者们针对这一现状提出了多种技术来保护IC设计者的知识产权,并对这些技术的发展情况进行分析,为以后的研究提供方向及积累经验。

参考文献:

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